Título

Depósito, caracterización y estudio de películas delgadas de silicio, germanio y siliciogermanio microcristalinos

Autor

ARTURO TORRES SANCHEZ

Colaborador

MARIO MORENO MORENO (Asesor de tesis)

Nivel de Acceso

Acceso Abierto

Resumen o descripción

En la actualidad existe un gran interés en el desarrollo de materiales semiconductores

nano y microcristalinos depositados a bajas temperaturas, para la fabricación de celdas

solares de película delgada, así como en el desarrollo de electrónica en sustratos flexibles.

En décadas pasadas, películas delgadas de silicio amorfo hidrogenado (a-Si:H) fueron

ampliamente utilizadas en celdas solares y transistores de película delgada (TFTs), sin

embargo dichas películas presentan degradación a la exposición prolongada de luz, además

de muy baja movilidad de portadores, lo que se traduce en dispositivos electrónicos de bajo

desempeño. Una alternativa ha sido el desarrollo de películas de silicio microcristalino

hidrogenado (μc-Si:H), las cuales presentan una mayor estabilidad a la radiación solar, así

como también mayor movilidad de portadores, resultando en celdas solares más estables y

TFTs de mejor desempeño.

Editor

Instituto Nacional de Astrofísica, Óptica y Electrónica

Fecha de publicación

3 de mayo de 2015

Tipo de publicación

Tesis de maestría

Formato

application/pdf

Idioma

Español

Audiencia

Público en general

Sugerencia de citación

Torres-Sanchez A.

Repositorio Orígen

Repositorio Institucional del INAOE

Descargas

3489

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