Título
Depósito, caracterización y estudio de películas delgadas de silicio, germanio y siliciogermanio microcristalinos
Autor
ARTURO TORRES SANCHEZ
Colaborador
MARIO MORENO MORENO (Asesor de tesis)
Nivel de Acceso
Acceso Abierto
Materias
Resumen o descripción
En la actualidad existe un gran interés en el desarrollo de materiales semiconductores
nano y microcristalinos depositados a bajas temperaturas, para la fabricación de celdas
solares de película delgada, así como en el desarrollo de electrónica en sustratos flexibles.
En décadas pasadas, películas delgadas de silicio amorfo hidrogenado (a-Si:H) fueron
ampliamente utilizadas en celdas solares y transistores de película delgada (TFTs), sin
embargo dichas películas presentan degradación a la exposición prolongada de luz, además
de muy baja movilidad de portadores, lo que se traduce en dispositivos electrónicos de bajo
desempeño. Una alternativa ha sido el desarrollo de películas de silicio microcristalino
hidrogenado (μc-Si:H), las cuales presentan una mayor estabilidad a la radiación solar, así
como también mayor movilidad de portadores, resultando en celdas solares más estables y
TFTs de mejor desempeño.
Editor
Instituto Nacional de Astrofísica, Óptica y Electrónica
Fecha de publicación
3 de mayo de 2015
Tipo de publicación
Tesis de maestría
Recurso de información
Formato
application/pdf
Idioma
Español
Audiencia
Público en general
Sugerencia de citación
Torres-Sanchez A.
Repositorio Orígen
Repositorio Institucional del INAOE
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