Título

Estudio de la resistividad del material en base de FeCl3 para registros holográficos

Autor

ROSAURA VALLEJO MENDOZA

Colaborador

ARTURO OLIVARES PEREZ (Asesor de tesis)

NIKOLAI KORNEEV ZABELLO (Asesor de tesis)

Nivel de Acceso

Acceso Abierto

Licencia

http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0

Materias

Holographic interferometry - (INTERFEROMETRÍA HOLOGRÁFICA) Resistance measurement - (MEDIDA DE RESISTENCIA) Polymers - (POLÍMEROS) CIENCIAS FÍSICO MATEMÁTICAS Y CIENCIAS DE LA TIERRA - (CTI) FÍSICA - (CTI) ÓPTICA - (CTI)

Resumen o descripción

Se analizan las propiedades eléctricas de las películas orgánicas fotosensibles de volumen,

partiendo de dos matrices fotosensibles para uso holográfico; nitrocelulosa y PVA.

Ambas dopadas con FeCl3, comúnmente utilizando como fotosensibilizador. Con la técnica

de cuatro puntas, se mide la resistividad de estas matrices, para evitar los efectos iónicos

en la interface de material-electrodo, debido a que la película presenta un carácter

hidrofílico, con la matriz de PVA, e hidrofóbico con la matriz de nitrocelulosa.

Editor

Instituto Nacional de Astrofísica, Óptica y Electrónica

Fecha de publicación

agosto de 2012

Tipo de publicación

Tesis de maestría

Versión de la publicación

Versión aceptada

Recurso de información

http://inaoe.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1009/777

Formato

application/pdf

Idioma

Español

Audiencia

Estudiantes

Investigadores

Público en general

Sugerencia de citación

Vallejo-Mendoza R.

Repositorio Orígen

Repositorio Institucional del INAOE

Descargas

8016